2021年11月19-21日，由华东理工大学承办，上海师范大学和上海理工大学协办的第四届“华人光催化材料学术研讨会” (CSPM4)在上海虹桥西郊假日酒店召开，会议旨在为光催化领域海内外专家提供一个高水平的成果交流和展示平台。

公司高分子系施伟龙副教授参加了此次学术研讨会，并受邀作了 “碳点基复合材料在光催化领域的应用”口头报告。会议期间还与国内外专家进行交流与讨论，针对碳点基复合光催化剂的合理设计与开发，提出了新的设计思路，同时对本领域的关键科学问题进行了深入探讨。

作者：施伟龙